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上海微电子光刻机平台亮相
利多
2小时前
技术突破
半导体
光刻机
上海
上海微电子在进博会展示新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。自主光刻装备进展提升半导体设备国产化预期。关注后续验证、量产和客户导入。
光刻机
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上海微电子新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相进博会
【上海微电子新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相进博会】据上海微电子装备集团官方公众号,在第九届进博会上,上海微电子携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相,展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。